IBM公司与Molecular Imprints Inc.(MII)正相助开拓介电质料，配合以增长面向主流芯片制作的开拓纳米压印光刻(nano-imprint lithography)技术的开拓。这是纳米MII散漫独创人兼美国德州大学化学工程系教授Grant Wilson日前在SPIE微光刻钻研会上泄露的。

    Wilson展现，压印IBM以及MII正相助开拓一种旋涂玻璃(spin-on glass)，光刻也称“photo-imagable”介电质，介电这种质料用于纳米压印光刻的质料资讯后端线(back-of-line，BEOL)加工。行业这表明纳米压印光刻又有了新的配合运用空间。当初该技术主要用于MEMS制作、开拓存储媒体以及相关运用。纳米

    MII在SPIE上宣告了一篇论文，压印题为《面向双大马士革(dual damascene)加工的光刻直接介电质料压印技术》。在论文中，介电MII宣称，质料资讯与传统光刻技术比照，纳米压印光刻能削减双大马士革芯片制作1/3的工序。

    “经由接管带两层图形的印刷模板，一个压印光刻工序就替换了两个光刻工序。”MII论文称。“假如印刷光阻质料接管功能介电质料，功能尚有可能进一步后退。”